如今常用的磁力研磨機(jī)拋光方法有以下幾種:
    1.1 機(jī)械拋光
    機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到滑潤面的拋光方法,一般運(yùn)用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,格外零件如回轉(zhuǎn)體表面,可運(yùn)用轉(zhuǎn)臺等輔助工具,表面質(zhì)量 懇求高的可選用超精研拋的方法.超精研拋是選用特制的磨具,在富含磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動.運(yùn)用該技術(shù)可以抵達(dá) Ra0.008 μ m 的表面粗拙度,是各種拋光方法中的.光學(xué)鏡片模具常選用這種方法.
    1.2 化學(xué)拋光
    化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的有些較凹有些優(yōu)先溶解,然后得到滑潤面.這種方法的首要利益是不需凌亂設(shè)備,可以拋光外形凌亂的工件,可以一同拋光良多工件,效率高.化學(xué)拋光的是拋光液的制造.化學(xué)拋光得到的表面粗拙度一般為數(shù) 10 μ m .
    1.3 電解拋光
    電解拋光基本原理與化學(xué)拋光一樣,即靠選擇性的溶解材料表面細(xì)小凸出有些,使表面光滑.與化學(xué)拋光對比,可以陰反響的影響,作用較好.電化學(xué)拋光進(jìn)程分為兩步:
    ( 1 )微觀整平 溶解商品向電解液中渙散,材料表面幾許粗拙下降, Ra > 1 μ m .
    ( 2 )微光平坦 陽極化,表面光亮度前進(jìn), Ra < 1 μ m .